产品型号

VTC-600-2HD

安装条件

本设备要求在温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）
2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地
3、气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀
4、工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上
5、通风装置：需要

主要参数

1、电源电压：220V  50Hz
2、功率：900W
3、腔体内径：Ø300mm
4、极限真空度：9.0×10^-4Pa
5、样品台加热温度：RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度）
6、靶枪数量：2个（可选配其他数量）
7、靶枪冷却方式：水冷
8、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）
9、直流溅射功率：500W；射频溅射功率：300W。（靶电源种类可选，可选择两个直流电源，也可选择两个射频电源，或选则一个直流一个射频电源）
10、载样台：Ø140mm，可根据客户需求选配加装偏压功能，以实现更高质量的镀膜。
11、载样台转速：1rpm-20rpm内可调
12、工作气体：Ar等惰性气体
13、进气气路：质量流量计控制2路进气，一路为100SCCM，另一路为200SCCM。

产品规格

1、主机尺寸：500mm×560mm×660mm
2、整机尺寸：1300mm×660mm×1200mm
3、真空室规格：φ300×300mm
4、重量：160kg

1

直流电源控制系统

1套

2

射频电源控制系统

1套

3

膜厚监测仪系统

1套

4

分子泵（德国进口或者国产更大抽速）

1台

5

冷水机

1台

6

聚酯PU管（Ø6mm）

4m

1

金、铟、银、铂等各种靶材

（可选）

2

可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜

（可选）

3

双层旋转镀膜夹具

（可选）